| 1．设备名称：脉冲激光沉积系统 | |||
| 2．型号：NBM-PLD | |||
| 3．规格：3m*1m*2m | |||
| 4．设备简介、主要性能指标：设备简介：脉冲激光沉积系统是一台多功能、快速、高质量的制膜设备：能够制备高质量半导体光学薄膜，速率精确可控到原子数量级，可进行材料调控级生长高真空，保证薄膜质量。 主要性能指标：真空室直径Ф500mm；主腔室极限真空的压强小于9 E-9Torr；进样室可抽真空至压强小于<5E-7Torr；在0.1Torr氧气压下基片可加热至1200℃；可同时安装3个靶材，并可实现靶材的自转和公转；德国Lambda-Physik准分子激光器高达800mJ的高能量激光。 |
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| 5．现有功能与服务范围：可实时监控薄膜材料的生长过程，实现薄膜的精确生长、可制备铁电薄膜材料、磁性薄膜材料、光学薄膜材料、多功能复合薄膜等材料。 | |||
| 6.校编码 | 020121358 | 7．分 类 号 | 03060301 |
| 8．国别 | 美国 |
9．设备造号 | |
| 10．购置日期 | 201206 | 11．金额（元） | 人民币：1986000 |
| 美元： | |||
| 12．年使用机时 | 1000 | 13．可供开放机时数 | 1000 |
| 14．使用收费标准 | 校内 | 200元／小时 | |
| 校外 | 300 元／小时 | ||
| 15．设备管理人：王显威联系方式：15836112697 | |||
| 16．设备制造及供应商：美国NBM公司 | |||
| 17．设备存放地点（楼栋及房号）：物理南楼114房间 | |||
| 18．主要附件：机械泵、气瓶1个 | |||